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加速Micro led商用化,MOCVD饰演着主要角色
2022-09-02
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从产物开发进度来看,Micro LED近在咫尺,但从商用化时间来看,Micro LED又远在天涯。从最初的萌芽期生长到现阶段,Micro LED手艺取得了很大的提高,市场上相关产物也相继浮出水面,但由于手艺瓶颈和成本问题,Micro LED距离普遍普及另有良久。
最新研究讲述显示,Micro LED手艺虽面临众多的挑战,但对比两年前,现在的手艺希望已经提高许多,早期的专利手艺已经有实体样品展示机的泛起。随着Micro LED手艺的成熟,Micro LED商品化将逐渐加速。另外,Micro LED制造流程繁琐及要求加倍细腻,制程中所使用的原质料、制程耗材、生产装备、检测仪器及辅助治具等,需求规格严谨且周详度相对严酷。
Micro LED的商用化,制程中的每个息息相关的环节都很主要,例如LED外延片制造的要害焦点装备MOCVD。总部位于德国的MOCVD装备供应商爱思强一直致力于研发外延片等方面的手艺,旨在推动Micro LED的大规模量产化,加速Micro LED产物应用打入市场。
关于Micro LED的应用,爱思强以为,TV显示面板将会是首先打开市场的商业化产物。其次,车用显示也是未来Micro LED对照大的应用市场。随着客户要求提高,升级车内显示的需求逐渐增多,如车内外信息的动态显示以及营造气氛增添人车互动等。其他应用市场包罗智能手机、AR/VR、可穿着式装备等。
良率和成本是阻碍Micro LED大规模量产的两大因素
爱思强示意,现阶段,与LCD和OLED相比,Micro LED不具备成本优势。降低成本涉及许多因素,如缺陷率和良率。由于Micro LED芯片尺寸超小,手艺难度大,良率难以保证,故成本居高不下。尤其是红光的处置,因受限于质料与特征,红光良率低且可靠性不高,因此成本极高。
作为LED外延片制造的要害焦点装备,MOCVD外延片生产良率涉及波长平均性、翘曲治理(Bow Management)以及缺陷密度(Defects Density)等。
以传统显示LED芯片为例,分选环节占的成本比例较大,若能去掉此环节,成本将下降不少。至于Micro LED,由于生产流程及成本的问题,不能能存在分选环节,这就解释对波长平均性的要求很高。为了实现Micro LED量产,MOCVD装备生产的所有外延片的波长局限需在4nm以内。
翘曲治理方面,爱思强以为,Micro LED会往6英寸以上偏向生长,而6英寸的翘曲治理与4英寸的差异很大。无论是硅衬底或是蓝宝石衬底,都需要特殊的外延工艺来到达稳固的翘曲性能。
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若波长平均性保持在4nm局限内,翘曲治理小于50μm,缺陷密度控制在0.15/cm2以内,生产良率就能够获得保证。
MOCVD的C2C和In-Situ Cleaning手艺,助力Micro LED商用化
在实现高产能及低成本方面,爱思强的自动卡匣式(C2C)晶圆传输模块手艺,可以实现8x6英寸或5x8英寸GaN-on-Si晶圆在封锁的卡匣环境中的自动加载和移除,提高产量的同时保证了外延片的颗粒密度。
此外,爱思强MOCVD装备具备自动原位清洁(In-Situ Cleaning)手艺,该手艺可确保装备在每次运行时都处于清洁状态,保证了外延片的低缺陷密度率并显著削减停机维护时间,保证高良率,从而降低生产成本。
据先容,自动原位清洁手艺在半导体行业是一个标配手艺,但在MOCVD装备圈内,此手艺还未普及,缘故原由如下:氮化镓剖析温度很高,达1400—1500摄氏度。若是是在氯气情形下,此温度会相对降低,可到900摄氏度左右,包罗外面以及腔体所有的面都需降到这个温度,这对MOCVD装备厂商来说极具挑战性。现在,许多MOCVD装备接纳不锈钢结构,不锈钢需要用水冷却,这与900摄氏度相互矛盾。而爱思强的MOCVD装备接纳的是全石墨的腔体,可以保证外面沉积稳固,也可以保证石墨能够被加热到900摄氏度以上。
爱思强示意,MOCVD装备的这两大手艺都是实现Micro LED高良率和低成本的要害手艺。传统的LED生产需向更自动化的生产模式转变,才气保证高良率,降低成本,加速Micro LED的大规模量产。
据领会,爱思强搭载自动卡匣(C2C)和自动原位清洁手艺的行星式反映器平台获得了多家客户的订单,极高地优化了外延片的良率及生产自动化水平。
未来,爱思强将继续投入手艺研发事情,助力Micro LED的商用化。
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