韩国政府将致力于极紫外光刻工艺中要害质料的研发？磁吸轨道灯吊顶工艺

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韩国政府将致力于极紫外光刻工艺中要害质料的研发

2022-06-02    

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　　对用于EUV(极紫外)光刻工艺的要害质料的投资将周全睁开。只管随着主要的韩国半导体公司最近最先在其生产线中引入EUV工艺，相关手艺已经引起了人们的关注，但人们仍对支持该投资的相关质料，组件和装备的基础微弱提出了指斥。预计这些投资将为EUV流程扩大韩国研发生态系统的基础。

　　凭证行业新闻，5月26日，韩国科学和信息通讯手艺部(MSIT)将在未来5年内投资950万美元(117亿韩元)，用于“ 5nm以下半导体光刻工艺的EUV吸收和渗透质料手艺”项目。质料创新项目”。包罗私营部门的投资在内，总投资额为1100万美元(136亿韩元)。该项目的要害是内陆化EUV光刻工艺所必须的质料，这种质料被视为尖端的半导体制造手艺。韩国电子手艺研究所(聚合电子质料研究中央，金亨根(卖力人))将监视该项目。

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　　此外，“ EUV-IUCC”是由汉阳大学的安进浩教授于去年确立的EUV光刻手艺研究咨询小组，将卖力海内外公司，学术界的集中能力。以及研究机构。介入机构和组织将开发可以批量生产处于初生阶段的EUV生态系统中已成为“蓝海”的产物的手艺。详细来说，他们将在EUV面罩毛坯和EUV防护膜上事情。掩模空缺示意在用电路图案笼罩之前用于光刻工艺的掩模。与基于渗透的ArF光刻工艺差异，EUV掩模需要高水平的手艺，由于它们需要“反射”容易被每种物质吸收的EUV光源。

　　只管该市场是由日本公司主导的，但由于天下上最大的半导体装备制造商应用质料公司(Applied Materials)已最先开发相关手艺，因此被以为是一个充满希望的市场。EUV防护膜示意可珍爱面罩免受污染的珍爱罩。Pellicle削减了缺陷百分比和替换光罩的次数。然则，EUV防护膜商业化可能需要一段时间。

EUV光刻机的事情原理(参考：ASML)

　　FST和SNSTech是韩国公司，已最先致力于开发这些质料。FST将专注于EUV防护膜，由于它专门从事ArF光刻工艺的防护膜。有趣的是，该公司是否可以通过确保制造EUV防护膜的手艺来进入下一代基础手艺市场。只管SNSTech被以为是开发EUV防护膜的公司，但它将实验开发EUV面膜毛坯并尽快确保普遍的产物平安。此外，已经确立了可以立刻评估EUV防护膜和EUV面膜毛坯性能的可靠盟友。

　　POSTECH旗下的浦项加速器实验室将开发一种手艺，该手艺可使用EUV光束检查质料的性能，而韩国尺度与科学研究院将准备手艺尺度并评估热和机械特征。预计也将有大公司加入，由于三星电子和SK Hynix很有可能将海内手艺应用于其下一代产物线。韩国电子手艺研究院正设计通过该项目获得至少十项A级专利。从一个相对较慢的韩国EUV生态系统快速生长的角度来看，该项目意义重大。此外，有趣的是，韩国公司是否可以确保新手艺并在由Hoya，Mitsui Chemicals和Asahi Glass等日本公司向导的全球EUV市场中确立影响力。“我们预计该项目将扩展到其他要害质料，例如EUV光刻胶以及自去年日本政府实行商业限制以来已成为问题的其他质料。” 该行业代表说。

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